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新聞內容

新聞標題	真空系統 - 原子層沉積系統
發佈日期	2009/7/17
新聞內容	設備簡介：原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD)技術具有薄膜厚度控制精準、薄膜缺陷密度低、無孔洞結構、介面品質良好優點，漢彊科技以最精簡之結構，提供您最經濟、最實惠之設備。儀器規格及功能： - Process Temperature Range: 25-500°C - Reaction Chamber Sizes (Diameter, Height): 200mm, 5mm - Gas lines: up to 8 - Carrier/Venting Gas: N2 or Ar mass flow controlled, 10-100 sccm - Optional: Plasma source、load lock、ventilation cabinet、integrated glove box 如有任何問題及查詢，請聯絡林仕國先生，電郵：sales@heli-ocean.com.tw 謝謝！
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